实验结果表明，三层氮化硅薄膜的互补作用对电池片起到了很好的减反射效果，第一层氮化硅膜厚在10nm左右，折射率在2.4-2.6之间，起到了很好的钝化作用，第二层氮化硅膜厚在30nm左右，折射率在2.0-2.2之间，第三层膜厚在45nm左右，折射率在2.0以内，三层膜系结构设计可使入射的太阳光在电池内多次折射，最大程度地增加了对光的吸收，显著降低了电池表面的光反射，同时，在实验的过程中将三层氮化硅薄膜沉积工艺改为间断性沉积后，氮化硅薄膜平均等效厚度在80-85nm，等效折射率为2.08-2.15，平均反射率降低了2%，相比两层膜的连续性沉积工艺大大提升了氮化硅膜的致密性，提高了氮化硅膜对电池片的钝化效果，增大了电池片的开路电压和短路电流，从而既显著提高了电池片的转换效率，又极大地改善了原来两层膜工艺出现的色差问题。